镀膜方法/镀膜教程

最简单的塑料镀膜方法是什么?

〖壹〗 、最简单的塑料镀膜方法是用镀液浸泡或喷涂 。塑料镀膜的具体过程如下：准备塑料表面：清洗塑料表面 ，去除油脂
、灰尘等杂物
。加工镀液：将镀膜材料加入水中
，按照配方比例混合。镀膜：将塑料表面浸入镀液中或喷涂镀液，保持一定时间后提出 。干燥：将镀后的塑料表面放置在通风干燥处 ，直到完全干燥。检查：检查镀膜质量，确保符合要求
。

〖贰〗、常见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀。真空离子镀
，又称真空镀膜.真空电镀的做法是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强 ，亮度高．而相对其他的镀膜法来说
，成本较低，对环境的污染小 ，为各行业广泛采用 。

〖叁〗 、塑料瓶从白色变为银色通常可以通过镀膜等方式实现
。一种可能是采用真空镀膜技术。首先
，将塑料瓶表面清洁干净，去除杂质和油污等 。然后把塑料瓶放置在真空环境中 ，通过特定的设备使金属等镀膜材料蒸发并附着在塑料瓶表面
，形成一层极薄的金属膜，从而呈现出银色外观
。

物理蒸镀法(PVD)的各种镀膜方法

物理蒸镀法（PVD）的各种镀膜方法主要包括蒸发系和溅射系两大类：蒸发系蒸发系镀膜方法是将薄膜物质加热蒸发 ，在比蒸发温度低的基本表面上凝结成固体形成薄膜。真空蒸镀（Vacuum Deposition）：原理：在真空容器中放入蒸发源和基板
，通过加热蒸发源使薄膜物质气化，并在基板上凝结成薄膜 。

PVD（Physical Vapor Deposition）是一种在真空条件下 ，采用物理方法使材料源表面气化成原子、分子或离子，并在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术
。PVD主要分为蒸镀
、溅射和离子镀三大类
，每种方式都有其独特的优点和缺点。

PVD镀膜技术主要分为真空蒸发镀膜和溅射镀膜两大类 。以下是两者的比较图表：真空蒸发镀膜 真空的定义：泛指低于一个大气压的气体状态，分子密度较为稀薄 ，碰撞几率低
。真空蒸发镀膜的定义：在真空条件下
，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。

光学镀膜“真空溅射”和“离子镀 ”工作方法

〖壹〗、在光学镀膜中 ，真空溅射和离子镀是两种常用的物理气相沉积（PVD）技术
，它们都是在真空环境下工作，通过将目标材料的原子或分子转移到基板上 ，从而形成薄膜 。

〖贰〗 、真空溅射镀工艺流程：工件镀前处理装件抽真空烘烤
、轰击预熔溅射沉积冷却取件后处理成品。真空离子镀工艺流程：工件镀前处理装件抽真空烘烤离子轰击离子沉积冷却取件后处理成品
。

〖叁〗、真空溅射镀膜：溅射镀膜是指在真空条件下用功能粒子轰击靶材表面
，使靶材表面原子获得足够能量逸出的过程。溅射镀膜技术包括普通溅射 、磁控溅射等多种方法 。真空电弧离子镀膜：电弧离子镀（AIP）的基本原理是电弧放电
。通过电弧放电使靶材表面蒸发或气化，然后沉积在基材表面。

〖肆〗
、物理气相沉积（PVD）：是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子 ，或部分电离成离子
，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术 。PVD镀膜技术主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜
。

〖伍〗 、原理不同：PVD物理气相沉积是通过蒸发 ，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气相沉积方法有真空镀
，真空溅射和离子镀三种，应用较广的是离子镀 。普通镀金则是一般包括化学金和电镀金
。

〖陆〗
、年 ，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。通常光学薄膜的制备条件要求高而精
，制备光学薄膜分干式制备法和湿式制备法 。干式制备法（含真空镀膜：蒸发镀，磁控溅镀 ，离子镀等）一般用于物理光学薄膜的制备
。湿式制备法（含涂布法
， 流延法，热塑法等）一般用于几何光学薄膜的制备。

常见的光学镀膜

〖壹〗、常见的光学镀膜主要包括：anti-reflection镀膜（AR膜或减反膜） 、超低反射镀膜以及化学镀膜 。anti-reflection镀膜（AR膜或减反膜）AR膜的主要目的是降低光学元件表面的反射率 ，从而减少杂光
，提高成像质量。其基本原理是利用膜层两个界面的反射光相位相反，实现干涉相消 ，从而减少反射光强
。

〖贰〗
、常用的光学镀膜材料分为金属类、氧化物类 、氟化物类和其他化合物类。金属类包括锗、铬
、铝、银 、金等 。锗是一种稀有金属
，无毒无放射性，广泛用于半导体工业
、塑料工业、红外光学器件 、航天工业
、光纤通讯等领域
。铬在某些应用中用作分光镜上的增强附着力层。铝在紫外域中是反射性能比较好的金属之一 。

〖叁〗、氟化镁是一种常用的光学镀膜材料
。它以无色四方晶系粉末的形式存在 ，具有高纯度的特点。使用氟化镁制备的光学镀膜能够提高透过率，并且不会产生崩点
，这使得它成为一种理想的光学镀膜材料 。二氧化硅也是一种重要的光学镀膜材料
。它以无色透明晶体的形式存在，具有高熔点和硬度 ，以及良好的化学稳定性。

〖肆〗 、光学镀膜材料主要分为以下几类： 高纯氧化物：包括一氧化硅（SiO）
、二氧化铪（HfO2）、二硼化铪 、氯氧化铪
、二氧化锆（ZrO2）、二氧化钛（TiO2）等 。 高纯氟化物：如氟化镁（MgF2） 、氟化镱（YbF3）、氟化钇（LaF3）
、氟化镝（DyF3）、氟化钕（NdF3）等
。

〖伍〗 、光学镀膜材料主要包括以下几种类型：高纯氧化物：如一氧化硅
、二氧化铪、二氧化锆 、二氧化钛
、三氧化二铝等
，以及其他多种氧化物如五氧化二钽、五氧化二铌 、氧化镁等。高纯氟化物：例如氟化镁
、氟化镱、氟化钇等，以及其他氟化物如氟化钾 、氟化锶
、氟化钡等 。